經(jīng)過(guò)雙級(jí)反滲透與電去離子處理后，產(chǎn)水電阻率已達(dá)到較高水平，但水中仍殘留微量弱電解質(zhì)、膠體顆粒與溶解氣體，距離電子級(jí)超純水的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)尚有差距。

　　拋光混床的工作原理是利用陽(yáng)樹(shù)脂與陰樹(shù)脂的混合填充，對(duì)水中殘余的陽(yáng)離子與陰離子進(jìn)行交換去除。與普通工業(yè)混床不同，拋光混床采用核子級(jí)樹(shù)脂，樹(shù)脂轉(zhuǎn)型為氫型與氫氧根型，出廠后可直接裝填使用，無(wú)需現(xiàn)場(chǎng)再生。樹(shù)脂的交換容量與動(dòng)力學(xué)性能經(jīng)過(guò)優(yōu)化，能夠在低含鹽量條件下保持較高的離子交換速率，對(duì)硼、硅等弱電解質(zhì)離子也有較好的去除效果。

　　萊特萊德在終端精制環(huán)節(jié)應(yīng)用Huncotte®多頻改性吸附混床技術(shù)，通過(guò)對(duì)樹(shù)脂表面進(jìn)行改性處理，增強(qiáng)樹(shù)脂對(duì)特定離子與有機(jī)物的吸附選擇性，提升終端出水的純度與穩(wěn)定性。混床樹(shù)脂的使用壽命取決于進(jìn)水水質(zhì)與運(yùn)行周期，在EDI產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定的前提下，拋光樹(shù)脂通常可運(yùn)行較長(zhǎng)時(shí)間后更換。樹(shù)脂失效后電阻率會(huì)逐步下降，系統(tǒng)通過(guò)在線電阻率儀表實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，當(dāng)指標(biāo)低于設(shè)定閾值時(shí)提示更換。

　　除硼處理是半導(dǎo)體與光伏行業(yè)超純水制備中的特殊需求。硼離子在水中以硼酸形式存在，常規(guī)反滲透與EDI對(duì)硼的去除效率有限，而硼離子會(huì)對(duì)硅晶圓的電學(xué)性能產(chǎn)生影響。萊特萊德采用靶向除硼樹(shù)脂，樹(shù)脂官能團(tuán)可與硼離子形成穩(wěn)定絡(luò)合物，對(duì)硼的選擇性強(qiáng)，不受水中其他離子干擾，可將硼含量控制在很低水平。

　　TOC控制是終端精制的另一項(xiàng)關(guān)鍵任務(wù)。水中殘留的有機(jī)物即使含量很低，也可能在芯片清洗與制藥配液過(guò)程中造成污染。萊特萊德配置185納米紫外TOC降解設(shè)備，利用高能紫外光子激發(fā)水分子產(chǎn)生羥基自由基，將大分子有機(jī)物氧化分解為二氧化碳與水，同時(shí)配合254納米紫外殺菌設(shè)備控制微生物指標(biāo)。